產(chǎn)品詳情
以光學(xué)紫外曝光為例，首先將硅片定位在光學(xué)系統(tǒng)的聚焦范圍內(nèi)，日本HD關(guān)節(jié)軸組合諧波CSF-25-160-2A-GR硅片的對準(zhǔn)標(biāo)記與掩模版上相匹配的標(biāo)記對準(zhǔn)后，紫外光通過光學(xué)系統(tǒng)和掩模版圖形進(jìn)行投影。掩模版圖形若以亮暗的特日本HD關(guān)節(jié)軸組合諧波CSF-25-160-2A-GR征出現(xiàn)在硅片上，這樣光刻膠就曝光了。
8所示為紫外曝光系統(tǒng)曝光過程示意圖。該曝光系統(tǒng)包括一個紫外光源、一個光學(xué)系統(tǒng)、一塊由芯片圖形組成的投影掩模版、一個對日本HD關(guān)節(jié)軸組合諧波CSF-25-160-2A-GR準(zhǔn)系統(tǒng)和涂過光刻膠的硅片。硅片放在可以實(shí)現(xiàn)X、Y、Z、?方向運(yùn)動的承片臺上，由對準(zhǔn)激光系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)承片臺上的硅片與掩模版之間的對準(zhǔn)，由光源系統(tǒng)、投影掩模版、投影透鏡實(shí)現(xiàn)硅片上光刻膠的曝光。
