PREH壓力變送器P20VR

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北京志鴻恒拓科技有限公司

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詳細參數(shù)
品牌PREH型號PREH
加工定制

產(chǎn)品詳情



產(chǎn)品介紹

PREH壓力變送器其測原理是:流程壓力和參考壓力分別作用于集成硅壓力元件的兩端,其差壓使硅片變形(位移很小,僅μm級),以使硅片上用半導體技術制成的全動態(tài)惠斯登電橋在外部電流源驅動下輸出正比于壓力的mV級電壓信號。由于硅材料的彈性,所以輸出信號的線性度及變差指標均很高。工作時,PREH壓力變送器將被測物理量轉換成mV級的電壓信號,并送往放大倍數(shù)很高而又可以互相抵消溫度漂移的差動式放大器。放大后的信號經(jīng)電壓電流轉換變換成相應的電流信號,再經(jīng)過非線性校正,最后產(chǎn)生與輸入壓力成線性對應關系的標準電流電壓信號。PREH壓力變送器其測原理是:流程壓力和參考壓力分別作用于集成硅壓力元件的兩端,其差壓使硅片變形(位移很小,僅μm級),以使硅片上用半導體技術制成的全動態(tài)惠斯登電橋在外部電流源驅動下輸出正比于壓力的mV級電壓信號。由于硅材料的彈性,所以輸出信號的線性度及變差指標均很高。工作時,PREH壓力變送器將被測物理量轉換成mV級的電壓信號,并送往放大倍數(shù)很高而又可以互相抵消溫度漂移的差動式放大器。放大后的信號經(jīng)電壓電流轉換變換成相應的電流信號,再經(jīng)過非線性校正,最后產(chǎn)生與輸入壓力成線性對應關系的標準電流電壓信號。PREH壓力變送器其測原理是:流程壓力和參考壓力分別作用于集成硅壓力元件的兩端,其差壓使硅片變形(位移很小,僅μm級),以使硅片上用半導體技術制成的全動態(tài)惠斯登電橋在外部電流源驅動下輸出正比于壓力的mV級電壓信號。由于硅材料的彈性,所以輸出信號的線性度及變差指標均很高。工作時,PREH壓力變送器將被測物理量轉換成mV級的電壓信號,并送往放大倍數(shù)很高而又可以互相抵消溫度漂移的差動式放大器。放大后的信號經(jīng)電壓電流轉換變換成相應的電流信號,再經(jīng)過非線性校正,最后產(chǎn)生與輸入壓力成線性對應關系的標準電流電壓信號。

詳細參數(shù)

壓力:250 bar

電壓:0…10 V

電流:4…20 mA


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